滑轨式PECVD系统|贝意克设备

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PECVD系统

智能型简易版回转型

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PECVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：

浏览量：1765

PECVD系统产品简介：本设备主要针对实验石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。
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BTF-1200C-II-SL-400C-PECV前端预热双温区滑轨PECVD

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SL-400C-PECV

浏览量：1481

前端预热双温区滑轨PECVD： 1.工艺流程简单。 2.生长温度更低。 3.实现快速升温和降温。 4.辉光均匀等效，均匀生长。
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BTF-1200C-II-AS-500A智能型双温区等离子化学气相沉积系统

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-AS-500A

浏览量：1987

智能型双温区等离子化学气相沉积系统 1.高性能、免维护 2.工艺流程简单 3.温度控制精确，操作简便
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BTF-1200C-RP-PECVD连续回转PECVD系统

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-RP-PECVD

浏览量：1519

该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD），连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，
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BTF-1200C-RP-PECVD连续进出料等离子体增强回转设备

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-RP-PECVD

浏览量：3228

连续进出料等离子体增强回转设备，该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD），炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质。
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