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    更新时间：2025-09-05

    型号：BTF-1200C-R-PECVD

    浏览量：398

    台面式等离子体增强真空回转炉BTF-1200C-R-PECVD，该设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀。
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    型号：BTF-1200C-R-PECVD

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    等离子体增强回转PECVD系统 主要特点 我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。
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