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CVD系统

回转CVD设备负极材料烧结设备二维材料制备碳纳米管

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BTF-1200C-II-R-CVD连续进出料回转CVD生长设备

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-R-CVD

浏览量：1730

连续进出料回转CVD生长设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。
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BTF-1200C-II-SL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SL

浏览量：2054

BTF-1200C-III-SL-4ZL大三温区滑轨CVD系统（低真空、高真空环境）控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能.
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BTF-1200C-II-SL双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SL

浏览量：1842

双温区磁力拉杆设备（固态源、气态源、多源）具有两个独立的温场，温场之外配有磁力拉杆和石英料舟，并配有内探热电偶，可实现在实验过程中将固态源（如硫粉、硒粉等）推进热场，并同时可检测温度。
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BTF-1200C-II-SSL-CVD双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼）

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SSL-CVD

浏览量：1705

双独立温区滑轨炉CVD设备（可于生长硫化钼）提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位置的快升降温。
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BTF-1200C-III-S-SL-3ZL小三温区滑轨CVD

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-III-S-SL-3ZL

浏览量：1596

小三温区滑轨CVD控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能.
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BTF-1200C-II-SL-CVD二维材料制备

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SL-CVD

浏览量：1645

二维材料制备CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量，对于做低压CVD实验非常实用，重复性好。
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BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-CVD

浏览量：1686

BTF-1200C-II-CVD1200℃双温区CVD系统（低真空、高真空）是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成，根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。
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BTF-1500C-3ZL低真空CVD系统

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1500C-3ZL

浏览量：1393

低真空CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1500度高温管式炉组成。其广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
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