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CVD系统

回转CVD设备负极材料烧结设备二维材料制备碳纳米管

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BTF-1200C-SL-L-CVD智能型滑轨式CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-SL-L-CVD

浏览量：830

BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑轨式CVD系统。该设备主要分为五大部分：加热系统，真空系统，气体控制供给系统，自动控制移动系统，控制软件系统组成。
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BTF-1200C-3VT-D100立式碳纳米管制备设备

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-3VT-D100

浏览量：867

BTF-1200C-3VT-D100是一台实验级立式碳纳米管制备设备。设备加装石英管和石英内管（带砂芯）各一支、三温区加热炉一台、收集罐及配套的密封上下横向法兰等。
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BTF-1200C-RB-D-CVD连续进出料回转CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-RB-D-CVD

浏览量：852

该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等。设备广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料等。
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BTF-1200C-II-PECVDCVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-II-PECVD

浏览量：2197

CVD系统是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式,低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。
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BTF-1200C-HV高真空自动循环设备

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-HV

浏览量：1867

BTF-1200C-HV高真空自动循环设备内外双热电偶控制，内热电偶制动，使用者可以设定设备循环温度点，可根据内热电偶测得的温度制动，推动炉管进出加热腔体，整个实验过程可自动控制无需人工干涉。
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碳纳米管

更新时间：2025-09-04

型号：

浏览量：2357

流化床—粉体碳纳米管生长设备通过流量计和静态混气室把气体均匀混拌，通过上通气，气体通过双层管（夹层管预热气体，内腔体生长碳纳米管）确保通入的气体进入生长腔体内温度一直，通过多空陶瓷网的结构设计，从而解决均匀进气的问题。使的生长腔体热场流场稳定，确保得到高质量重复性好的碳纳米管。
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复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备

更新时间：2025-09-04

型号：

浏览量：1765

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备，可以实现在多孔氧化铝陶瓷管和陶瓷片上化学沉积上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和复合氧化物（Al2O3-SiO2、SiO2-TiO2、SiO2- ZrO2）氢分离膜。
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BTF-1200C-II-SL-210双炉膛滑动CVD控制系统

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-SL-210

浏览量：1606

双炉膛滑动CVD控制系统操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。
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