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CVD系统

回转CVD设备负极材料烧结设备二维材料制备碳纳米管

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BTF-1200C-II-R-CVD自动进出料回转CVD系统

更新时间：2025-09-04

型号：BTF-1200C-II-R-CVD

浏览量：2281

自动进出料回转CVD系统产品简介： 1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀； 2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。 3、广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料。 4、可在真空下或气氛保护下进行烧制。
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BTF-1200C-III-150-CVD间歇式CVD回转炉

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-III-150-CVD

浏览量：1259

间歇式CVD回转炉由控制柜和加热炉组成，控制柜为密封壳体，内置电路板和气路板，外部可通过触摸屏及手阀操控电路和气路；加热炉由一台三温区开启式管式炉及相应配件组成，炉管可回转。
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BST-1200C-CVD立式流化床-多壁碳纳米管制备设备

更新时间：2025-09-05

型号：BST-1200C-CVD

浏览量：930

1、气体先经过气体预热炉预热后进入流化床反应腔体，可以降低大量冷气流进入腔体对工艺的影响。 2、反应器出口配有搅动装置，防止碳管在反应器出口堵塞。 3、进液口附近配有测温热电偶，可以控制进液口的温度。 4、进液口活动式，可以根据工艺需要的温度调整上下位置。 5、收集器排气口安装可转动式滤网，方式滤网堵塞。
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BTF-1600C-CVD-D21600℃多源高温CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1600C-CVD-D2

浏览量：643

这是一台1600℃多源高温CVD系统。电气控制采用内置控温仪表，其控温精准且操作直观简便。炉管为刚玉管，左端法兰为进气端，配有压力保护组件和2个进气口，其中一路由截止阀控制，为进混气；另外一路为环硼氮烷，通过电磁阀+单向阀控制；右端法兰为出气端，配有蝶阀控制的压力控制系统和真空泵组成，法兰前端配有搅拌机构，对于尾端沉积物料具有清理作用，同时配有过滤组件。
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BTF-1500C-CVD小型浮动催化系统CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1500C-CVD

浏览量：724

BTF-1500C-CVD是小型浮动催化系统CVD系统，配备真空系统，可以低压条件下进行实验；设备配有双向推拉注射泵、氧分析仪、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等组件。
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BTF-1400C-II-OP-R多功能回转CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1400C-II-OP-R

浏览量：676

多功能回转CVD系统由加热系统、炉管转动系统、供气系统、真空系统，工控及操作系统等结构组成。
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BTF-1200C-SL-A等离子增加化学气相沉积CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-SL-A

浏览量：823

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨等离子增加化学气相沉积CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体，并将所有控制集成于触屏操控界面之中，使设备更加智能化，便于使用者操作。温度范围宽：100-1200度可调，加热区域长度：1650mm。适用范围宽：金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。
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BTF-1200C-III-R-CVD-150回转CVD系统

更新时间：2025-09-05

型号：BTF-1200C-III-R-CVD-150

浏览量：1388

该设备是定制回转CVD系统，可实现一次加3L粉料进行生产；从结构上共分成主体设备、上料机构、收料机构三大模块。
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